Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface (SPCTS)

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Accueil du site > Axes de recherche > Axe 2 "Procédés de traitements de surface" > Thèmes de recherche > Réactivité > Réactivité en phase gazeuse et dans les couches de surface de matériau dans les procédés de traitement de surface en plasma étendu > Physique et chimie du plasma

Physique et chimie du plasma

Contacts

Jean-Louis JAUBERTEAU jean-louis.jauberteau@unilim.fr
Chercheur CNRS
Isabelle JAUBERTEAU isabelle.jauberteau@unilim.fr
Chercheur CNRS
Jacques AUBRETON jacques.aubreton@unilim.fr
Chercheur CNRS


Contexte/objectifs

La recherche menée concerne plus particulièrement l’étude des processus réactifs en plasma impliquant des radicaux et la caractérisation du milieu gazeux par la mesure des principaux paramètres plasma (énergie des électrons, densité d’ions et d’électrons, potentiel plasma et flottant, géométrie du plasma). Ces travaux sont développés dans des décharges micro-onde étendues, utilisant un générateur d’onde à 2.45 GHz. Ils répondent à un besoin de la communauté scientifique en ce qui concerne l’étude des cinétiques chimiques de réaction et le développement de techniques de caractérisation du plasma plus particulièrement adaptées à ce type de réacteur de dépôt et ces conditions de fonctionnement. Ils trouvent aussi un intérêt industriel.


Activités

  • Diagnostique du plasma et développement de techniques d’analyses adaptées
  • Etude de la réactivité des radicaux produits en plasma et mesure de constantes de réaction


Equipements spécifiques

  • Spectromètre de masse
  • Dispositif de spectroscopie d’émission et d’absorption en résolution spatial
  • Dispositif de sondes électrostatiques en résolution spatiale (simples et doubles sondes) et logiciels d’analyse spécifique pour l’étude des fonctions de distribution en énergie des électrons (dans le cas des simples sondes)
  • Réacteurs micro-onde à 2.45 GHz


Publications sélectionnées

  1. JL. Jauberteau, I. Jauberteau, J. Aubreton
    Absolute electron-impact ionization cross sections of free radicals from threshold to 30 eV : CHx=2,3, Si(CH3)x=1,2,3, and H2Si(CH3) radicals
    Journal of applied Physics, 99, 2006, p 124908-1-10

  2. J.L. Jauberteau, I. Jauberteau
    Plasma parameters deduced from cylindrical probe measurements : determination of the electron density at the ion saturation current
    Plasma Sources Sci. Technol., 17 (2008), 015019-1-11

  3. J.L. Jauberteau, I. Jauberteau
    Determination of the electron density in plasma by means of a floating double probe
    Review of Scientific Instruments, 79, 2008, 033505-1-5

Mis à jour le 20 avril 2009

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