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Dépôts et traitements de surface
- Enceintes pour dépôts chimiques en phase vapeur (CVD), Equipement de dépôt CVD assisté par plasma
- Dispositif de post décharge en écoulement avec générateur de plasma microonde
- Chambres ultra vide avec sas d’introduction et manipulateur et dispositifs pour ablation laser
- Lasers pulsés à excimères
- Four à plasma 800 kW avec sources correspondantes (800 A 1200 V en charge)
- Banc de projection atmosphérique piloté par ordinateur (100 kW)
- Banc de projection de suspensions
- Dispositif d’étude d’impact de gouttes céramiques sur film céramique liquide
- Dispositif de traitement thermique par plasma (60 kW)
- Chambre double paroi de projection sous vide partiel (0,2m3) (100 kW)
- Chambre à atmosphère contrôlée pour l’étude des arcs (60 kW)
- Chambre à atmosphère contrôlée pour l’étude des torches (60 kW)
- Dispositifs d’anémométrie laser
- Dispositif de mesure d’évaporation des particules dans un plasma d’arc (émission et absorption)
- Sonde enthalpique couplée à un spectromètre de masse
- Montages de mesure de mouillage et de calcul de tensions de surface, en atmosphère contrôlée jusqu’à 1800°C
