Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface (SPCTS)

Partenaires

Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Université de Limoges
Ecole Nationale Supérieure de Céramique Industrielle (ENSCI)


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APPECVD (Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) - Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à pression atmosphérique

Contacts

Christelle Dublanche-Tixier tixier@ensil.unilim.fr
Elaboration & caractérisation
Cédric Jaoul jaoul@ensil.unilim.fr
Modélisation & diagnostic plasma
Pascal Tristant pascal.tristant@unilim.fr
Responsable


Schéma du procédé

Schéma du procédé


Principe

Le système de dépôt fonctionnant à pression atmosphérique, qui a été développé dans notre laboratoire, permet la réalisation de couches minces d’oxyde, en particulier de SiOx, par voie chimique en phase vapeur à l’aide d’une torche à Injection Axiale (TIA) mise à notre disposition par le LPGP d’Orsay. Cette torche micro-onde fonctionne selon le principe d’une transition guide rectangulaire–ligne coaxiale. Le gaz plasmagène (Ar) ainsi que le gaz précurseur (TMS ou HMDSO) sont injectés dans le conducteur interne du coaxe et ressortent par la buse au niveau de laquelle le plasma est formé. Le réacteur qui entoure la torche est à l’ambiante, il contient un porte-substrat mobile selon deux axes (x et y) et est équipé des hublots nécessaires à l’utilisation de techniques de diagnostic. Cette source plasma peut également être utilisée pour du dégraissage de surfaces métalliques.


Activités


Equipements spécifiques

  • Dispositif de spectroscopie d’émission
  • Logiciel Comsol pour la modélisation du procédé

Mis à jour le 26 octobre 2009

© SPCTS - Centre Européen de la Céramique - 12 Rue Atlantis - 87068 LIMOGES Cedex - Tél : 05 87 50 23 03 - Fax : 05 87 50 23 09 - Courriel : spcts unilim.fr